Nos equipos de fabricación de semicondutores e optoelectrónicos, o granito úsase principalmente en pezas clave como plataformas de movemento de precisión, bases de carriles guía, estruturas de soporte de illamento de vibracións e substratos de instalación de compoñentes ópticos. Estas pezas teñen requisitos extremadamente altos en canto a precisión, estabilidade e tolerancia ambiental. As características do granito poden cumprir con precisión as estritas demandas das industrias de semicondutores e optoelectrónicos. A continuación, móstrase unha análise de escenarios de aplicación específicos e vantaxes:
I. Principais pezas de aplicación
Plataformas de movemento de precisión (como plataformas de obleas para máquinas de fotolitografía e máquinas de unión)
Úsase para transportar compoñentes de precisión como obleas e lentes ópticas, conseguindo movementos de translación e rotación con precisión nanométrica.
Equipamento típico: mesa de traballo da máquina de fotolitografía, plataforma de posicionamento do equipo de medición.
Base do carril guía e estrutura do marco
Como base de instalación para guías lineais e guías de flotación de aire, soporta o mecanismo de movemento central do equipo.
Equipamento típico: bastidores mecánicos de equipos de empaquetado de semicondutores e instrumentos de inspección óptica.
Estrutura de soporte e estabilización de illamento de vibracións
Úsase para illar vibracións externas (como as vibracións do chan da fábrica ou durante o funcionamento dos equipos), garantindo a estabilidade dos sistemas ópticos ou da maquinaria de precisión.
Escenarios típicos: Soporte base para microscopios ópticos e interferómetros láser.
Substrato de montaxe de compoñentes ópticos
Fixar dispositivos ópticos como espellos, prismas e láseres para garantir a estabilidade a longo prazo da precisión de aliñamento do sistema de ruta óptica.
Equipamento típico: equipamento de empaquetado optoelectrónico, sistemas de acoplamento de fibra óptica.
Data de publicación: 29 de maio de 2025